测量范围(0～1250) μm（F1、N1测头）F400测头可以检测
分 辨 率0.1μm (F1、N1测头
示值精度±(2%H+1) μm; H为被测涂层厚度
显示方法128*64点阵液晶LCD
存储容量可存储5组（每组较多100个测量值）测量数据
测厚仪的发展历史可以追溯到19世纪末，当时人们开始尝试利用声波技术来测量材料的厚度。随着科学技术的不断进步，测厚仪的测量精度和应用范围都得到了大幅提升。
测膜厚仪是一种用于测量材料薄膜厚度的仪器，它在工业生产和科学研究中起着至关重要的作用。
测膜厚仪的原理是利用光学或电子技术来测量薄膜的厚度。在光学测膜厚仪中，通过测量光的反射或透射来计算薄膜的厚度。而在电子测膜厚仪中，则是利用电子束或X射线来穿透薄膜并测量其厚度。这些测膜厚仪可以地测量薄膜的厚度，通常精度可以达到纳米级别。
测膜厚仪在工业生产中扮演着重要的角色。在电子行业中，薄膜技术被广泛应用于半导体制造和显示屏生产中。测膜厚仪可以帮助生产商确保薄膜的厚度符合规定标准，从而保证产品的质量。
薄膜技术已经被广泛应用于许多领域，包括电子、光学、医学和材料科学等。因此，测膜厚仪的发展和应用对于提高生产效率和产品质量具有重要意义。
膜测厚仪在现代工业生产中扮演着重要的角色。它能够帮助生产商确保产品质量和生产效率，从而提高竞争力和市场份额。随着技术的不断发展，膜测厚仪的性能和功能也在不断提升，为各行业的发展提供了有力支持。相信在未来，膜测厚仪将会有更广泛的应用和更广阔的发展空间。
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